除硅劑（Silicone Remover）是用于去除紡織品、工業(yè)設(shè)備或化妝品殘留硅油、硅樹脂的專用化學(xué)品，其成分分析需結(jié)合多種儀器聯(lián)用。通過成分分析，可以了解各個成分的化學(xué)名稱，成分的大概含量，和各個成分在配方中所起的作用等。

一、除硅劑的核心功能
分解或乳化硅油：斷裂Si-O鍵或包裹硅微粒使其脫離基底。

防止二次吸附：確保剝離的硅油不重新沉積。

兼容性：不損傷纖維/基材（如避免腐蝕金屬、降解化纖）。

二、常見成分及作用機制
1. 溶劑型（物理溶解）
強極性溶劑

環(huán)狀硅氧烷（如D5、D6）：相似相溶原理溶解硅油。

二甲基亞砜（DMSO）：穿透硅氧烷網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

烴類溶劑

白油、異構(gòu)烷烴（Isopar）：溶解低分子量硅油，毒性較低。

2. 表面活性劑型（乳化剝離）
高HLB值表面活性劑（HLB>15）

聚改性硅油（如PEG-12聚二甲基硅氧烷）：兼具親水/親硅性。

脂肪醇聚氧烯磷酸酯（如MAP-10）：強乳化力，耐堿。

陰離子-非離子復(fù)配

十二烷基苯磺酸鈉（LAS）+ 異構(gòu)十三醇（EO=9），協(xié)同增效。

3. 堿性/氧化型（化學(xué)斷裂）
強堿體系

氫氧化鈉/鉀（5-10%）：水解Si-O-Si鍵，生成硅醇鹽。

有機胺（如三醇胺）：溫和堿性，適用于敏感材質(zhì)。

氧化劑

過鹽（如過銨）：氧化降解硅樹脂，需加熱激活。

4. 功能性助劑
螯合劑：EDTA-2Na（防止金屬離子催化硅油重新交聯(lián)）。

消泡劑：聚改性聚硅氧烷（抑制處理過程起泡）。

緩蝕劑：苯并三氮唑（保護金屬設(shè)備）。

三、成分分析方法
1. 初步判斷
pH測試：

堿性（pH>10）→ 可能含NaOH/有機胺。

中性 → 溶劑型或非離子表活為主。

揮發(fā)性檢測：溶劑型有明顯氣味（如D5的清淡花果香）。

2. 儀器分析
氣相色譜-質(zhì)譜（GC-MS）：

檢測揮發(fā)性硅氧烷（如D4-D6）及溶劑殘留。

紅外光譜（FTIR）：

1060 cm?1（Si-O-Si特征峰）→ 含硅剝離劑；

1100 cm?1（聚鏈）→ 聚改性硅油。

核磁共振（NMR）：

1H NMR區(qū)分PEG鏈與硅甲基（δ 0.1 ppm）。

3. 化學(xué)檢測
硅含量測定：

灰化法（高溫灼燒后稱重SiO?殘留）。

乳化穩(wěn)定性測試：

將除硅劑與硅油混合，觀察分層時間。